Reaktives Magnetron-Sputtern
Reaktives Magnetron-Sputtern von Schichten für Dünnschichtsolarzellen
Zur Herstellung von Dünnschichtsolarzellen benötigt man kostengünstige, auf große Flächen (> > 1 m2) skalierbare Verfahren zur homogenen und reproduzierbaren Abscheidung dünner Metall- und Halbleiterschichten.
www.helmholtz-berlin.deReactive magnetron sputtering
Reactive magnetron sputtering of layers for thin layer solar cells
For the production of thin film solar cells cost-effective techniques scalable to large areas (> > 1 m2) are required for the homogeneous and reproducible deposition of thin metal and semiconductor layers.
www.helmholtz-berlin.deLB 4001
Laboranlage für Magnetron-Sputter-Systeme bis 3750 mm
Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP Winterbergstraße 28 01277 Dresden, Deutschland www.fep.fraunhofer.de
www.fep.fraunhofer.deLB 4001
Laboratory device for magnetron-sputter-systems up to 3750 mm
Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP Winterbergstraße 28 01277 Dresden, Germany www.fep.fraunhofer.de
www.fep.fraunhofer.deCdTe-Dünnschichtphotovoltaik im Fraunhofer FEP [ PDF 0.57 MB ]
Magnetron-PECVD-Abscheidung von amorphen und mikrokristallinen Siliziumschichten
Pierre Pötschick
www.fep.fraunhofer.deCdTe thin film photovoltaic technology at Fraunhofer FEP [ PDF 0.56 MB ]
Magnetron-PECVD deposition of amorphous and microcrystalline
Pierre Pötschick
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