Allgemeine Informationen
In einem ersten Produktionsschritt wird exakt dotiertes Platin im Hochvakuum vollflächig auf Al2O3-Substrate aufgedampft.
Anschließend erfolgt die fotolithografische übertragung der extrem feinen Mäanderstruktur oder Elektrodenstruktur auf den Platin-Substrat-Rohling unter Reinraumbedingungen (bis Klasse 1000).
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In the first production stage, precisely doped platinum, is vapour-deposited under vacuum onto an Al2O3 substrate.
The next step is the photolithographic transfer of the extremely fine meander structure or electrode structure onto the blank platinum substrate under clean-room conditions (up to Class 1000).
heraeus-sensor-technology.deDurch gezielte Steuerung des Prozesses mit Zugabe von Reaktivgasen lassen sich die Schichteigenschaften „ nanolagenweise maßschneidern “, erklärt Wolfgang Eichmann, Verfahrensingenieur PVD-Technik.
Bei ERCoatnt wird nicht nur ein Material aufgedampft.
„Sie brauchen mindestens eine keramische und eine metallische Schicht“, sagt Gesamtprojektleiter Dr. Thomas Uihlein.
www.mtu.des properties nanolayer by nanolayer ”, as PVD technology process engineer Wolfgang Eichmann explains.
The ERCoatnt process involves vapor deposition of more than just one material.
“You need at least one ceramic and one metallic layer,” says Dr. Thomas Uihlein, the overall project manager.
www.mtu.deUnter dem bläulichen Licht einer Plasmaquelle läuft hier in einem Hochvakuum-Ofen ein komplexer Beschichtungsprozess.
Rund 100 einzelne Schichten werden auf den Glaswafern aufgedampft, jede weniger als ein µm dünn.
www.schott.comUnder the bluish light of a plasma source, a complex coating process is taking place in a high-vacuum furnace.
Approximately 100 individual layers are coated onto the glass wafers, each layer less than one µm thick.
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